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供应开槽化学抛光垫/精抛皮/阻尼布

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    开槽化学抛光垫



SUNHIN系列抛光阻尼布用于对半导体晶片的半精抛或精抛,以获得没有缺陷的晶片表面。 

 SUNHIN 系列抛光垫片可以对硅片、砷化镓、磷化铟、玻璃硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石晶片、碳化硅晶片等材质或工件进行精密抛光。SUNHIN精抛光布 (Final polishing pad)以聚氨酯为主体材料,经涂层,发泡,削平及拉毛等工艺制成,它的特点是毛长,微孔大,吸药性强,同时,背面涂有高阻水性胶膜,粘结强度大,不宜脱落。SUNHIN拥有专门在抛光垫表面制作各种形状沟槽的设备及工艺,可根据用户要求设计制作各种形状沟槽。沟槽边缘成圆弧状,由于无切铣从而无碎屑及毛丝残留,也无表面硬化问题。



型号 厚度(mm) 压缩比(%)

SH-14 1.30 14.3

SH-08 0.80 12.3

SH-05 0.50 10.6









抛光垫规格项目 具体内容参数

抛光垫常用尺寸 圆形片380mm 圆形片460mm 圆形片610mm 圆形片910mm

圆形:230(mm)、380(mm)、640(mm)、610(mm)、820(mm)、920(mm)、960(mm)、1180(mm)。厚度从0.45-1.5(mm),*大宽幅:1.35M

抛光垫常用厚度 0.45-1.5mm

抛光垫的深加工 可针对适用之项目制作不同尺寸形状,制作剖沟、冲孔及背胶加工。

可提供背PT耐酸碱AB双面胶(无残留胶)、贴合不同厚度缓冲垫及胶板。

可提供背PT双面胶,刻方格槽、压痕槽、螺纹沟槽。

 
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公司地址: 中国广东东莞市黄江田美工业区37号
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